我最近在做一个化药复方注射剂（两个主要成分A：B=50:1），测定有关物质时，采用HPLC（UV）分别测定各个组分的有关物质,降解破坏后测定杂质A的一个已知杂质时，在此条件下主药A不出峰且还产生了一些未知杂质，分离度较好，那我该如何确定组分A的总杂质及各单杂质的限度？另外测定组分B的有关物质时，成分A会对其有干扰（组分A几乎不保留且峰型很差），我该在怎么办?成分B的有关物质是否可以只测一个已知单一杂质不做总杂质了？
请各位同仁不吝赐教~~




第一条件中A不出峰，表明保留较强，可以采用梯度洗脱；这样，B就不存在A干扰的问题了。最好定总杂，除非样品只能降解出这一个杂质。




但是主成分在此波长下没有吸收，没法梯度洗脱呢




双波长




不知道相同浓度下A、B紫外吸收如何。如果能告知，也许我可以有更好的建议




A具有末端吸收，采用柱前衍生化测含量，它的有关物质在280nm处测定，若双波长如何检测呀；B在230nm处有最大吸收，制剂破坏后对其有干扰，二者的有关物质如何判定呀？