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氧氟沙星的有关物质检查

时间: 2008-09-22 02:59:38 作者: 来源: 字号: 大中小

在做氧氟沙星的有关物质检查是为什么要用紫外(254nm)照射4小时以上?

光照应该使其产生光降解产物，看色谱条件能否将杂质分开。
是否是在降解后才能与杂质分开?

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